Malighafi zinazotumiwa katika utengenezaji wa tona kawaida ni pamoja na grafiti ya flake, coke ya petroli na wino wa jiwe la microcrystalline. Juu ya usafi wa grafiti, juu ya thamani ya matumizi. Njia za utakaso wa grafiti zinaweza kugawanywa katika mbinu za kimwili na mbinu za kemikali. Mbinu za utakaso wa kimwili ni pamoja na kuelea na utakaso wa joto la juu, na mbinu za utakaso wa kemikali hujumuisha mbinu ya msingi wa asidi, mbinu ya asidi hidrofloriki na njia ya kuchoma kloridi.
Miongoni mwao, njia ya utakaso wa joto la juu inaweza kutumia kiwango cha juu cha kuyeyuka (3773K) na kiwango cha kuchemsha cha grafiti kufikia 4N5 na usafi wa juu, ambayo inahusisha uvukizi na utoaji wa uchafu na kiwango cha chini cha kuchemsha, ili kufikia lengo la utakaso [6]. Teknolojia muhimu ya toner ya usafi wa juu ni kuondolewa kwa uchafu wa kufuatilia. Pamoja na sifa za utakaso wa kemikali na utakaso wa joto la juu, mchakato wa kipekee wa utakaso wa joto la juu wa thermochemical hupitishwa ili kufikia utakaso wa vifaa vya juu vya usafi wa toner, na usafi wa bidhaa unaweza kuwa zaidi ya 6N.
Utendaji wa bidhaa na sifa:
1, usafi wa bidhaa≥99.9999% (6N);
2, high usafi kaboni poda utulivu, shahada ya juu ya graphitization, chini ya uchafu;
3, granularity na aina inaweza kuwa umeboreshwa kulingana na watumiaji.
Matumizi kuu ya bidhaa:
■Mchanganyiko wa poda ya SiC ya usafi wa juu na vifaa vingine vya CARBIDE ya awamu imara
■Kuza almasi
■Nyenzo mpya za conductivity ya mafuta kwa bidhaa za elektroniki
■Nyenzo ya cathode ya betri ya lithiamu ya hali ya juu
■Misombo ya chuma yenye thamani pia ni malighafi
-
Boti ya kaki ya semiconductor ya silikoni inaweza...
-
Mipako ya Tantalum carbudi (TaC) yenye purit ya juu...
-
Vinyesi vya Graphite vilivyo na Silicon Carbide Coatin...
-
Diski za Silicon Carbide Epitaxial Wafer za VEECO...
-
LMJ microjet teknolojia ya vifaa vya laser
-
Chumba cha Mwitikio wa Nusu mwezi wa LPE