Katika uwanja wa utengenezaji wa semiconductor, theSiC Paddleina jukumu muhimu, haswa katika mchakato wa ukuaji wa epitaxial. Kama sehemu kuu inayotumika katikaMOCVD(Metal Organic Chemical Vapor Deposition) mifumo,Paddles za SiCzimeundwa kustahimili joto la juu na mazingira magumu ya kemikali, na kuzifanya kuwa muhimu kwa utengenezaji wa hali ya juu. Katika Semicera, tuna utaalam katika kutoa utendakazi wa hali ya juuPaddles za SiCiliyoundwa kwa wote wawiliKama EpitaxynaSiC Epitaxy, inayotoa uimara wa kipekee na uthabiti wa joto.
Matumizi ya SiC Paddles yameenea sana katika michakato kama vile ukuaji wa epitaxial, ambapo substrate inahitaji hali halisi ya joto na kemikali. Bidhaa zetu za Semicera huhakikisha utendakazi bora katika mazingira yanayohitaji aMdhibiti wa MOCVD, ambapo tabaka za ubora wa silicon carbudi zimewekwa kwenye substrates. Hii inachangia kuboreshwakakiubora na ufanisi wa juu wa kifaa katika uzalishaji wa semiconductor.
Semicera yaPaddles za SiChazijaundwa kwa ajili tuKama Epitaxylakini pia iliyoundwa kwa anuwai ya programu zingine muhimu. Kwa mfano, zinaendana na PSS Etching Carriers, muhimu katika utengenezaji wa kaki za LED, naICP Etching Flygbolag, ambapo udhibiti sahihi wa ioni ni muhimu kwa kuunda kaki. Paddles hizi ni muhimu kwa mifumo kamaWabebaji wa RTP(Usindikaji wa Haraka wa Thermal), ambapo hitaji la mabadiliko ya haraka ya joto na conductivity ya juu ya mafuta ni muhimu.
Zaidi ya hayo, Paddles za SiC hutumika kama Vishawishi vya LED Epitaxial, kuwezesha ukuaji wa kaki za LED za ufanisi wa juu. Uwezo wa kushughulikia mikazo tofauti ya hali ya joto na mazingira unazifanya zibadilike sana katika michakato tofauti ya utengenezaji wa semiconductor.
Kwa ujumla, Semicera imejitolea kutoa SiC Paddles ambazo zinakidhi mahitaji halisi ya utengenezaji wa semiconductor ya kisasa. Kuanzia SiC Epitaxy hadi Vidokezi vya MOCVD, masuluhisho yetu yanahakikisha kuegemea na utendakazi kuboreshwa, kukidhi mahitaji ya hali ya juu ya tasnia.
Muda wa kutuma: Sep-07-2024